概述
桌子 - 配备了独特的高NA投影光学的二倍阴影曝光设备
它也可以用于厚实的膜抗性。 可以针对晶圆，FPC等申请提出运输系统的建议。

使用
MEMS LED晶体FPC等。

规格
最多6英寸
对齐精度±1μ
*可选的背面对齐