全自动类型（2至12英寸，方形类型等）
概述
采用可以平行于高定义紫外光学系统，适用于高定义暴露的机制
定制 - 支持真空触点，软接触和接近度的全自动曝光设备风俗

使用
动力设备C-MOS后备MEMS LED陶瓷等。

规格
晶圆：可以使用12英寸6-8英寸4-6英寸2-4英寸和广场等
工作运输：CTOC，FOUP
自动对准：顶侧，背面 *选项
对齐精度：顶侧±0.8μm或更少/背面±1μm或更少